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9月17日消息，据报道，在近前的峰会上，黄仁勋回应了主持人提问的中国什么时候能搞定先进光刻机，黄仁勋判断中国到2030年就能做出自己的先进光刻系统！

他还提到一旦技术成熟，中国公司就有很强的大规模生产能力，国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。

国外对中国光刻机的进展一直是非常关心的，在这方面各种表态都有，有意思的是前不久蔡司半导体负责人Frank Rohmund也回答了类似的问题，表示中国要做出国产EUV光刻机可能还需要约15年。

相比之下，黄仁勋的判断更乐观，不过这两个回答之间也没有可比性，蔡司回应的是EUV，黄仁勋说的是先进光刻机，EUV当然是先进光刻机，但DUV依然也是先进光刻机，2030年也不会落伍，重要性也不会因为EUV量产了就降低，两种技术是独立的生态。

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关键词： 中国 黄仁勋 光刻机 euv 全球半导体领域 黄仁勋开源模型中国贡献最大