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中国光刻机的发展历程可以追溯到上世纪80年代末期。在改革开放的背景下，中国开始了自主研发光刻机的工作。随着技术的不断提升和投入的加大，中国光刻机的水平逐步提高。而林毅夫在三年内造出顶级光刻机的目标，更是为中国光刻机的发展注入了新的动力。

林毅夫在2019年提出的三年内造出顶级光刻机的目标，让人们对中国光刻机的发展充满了期待。两年时间过去了，中国光刻机的发展情况如何呢？

首先，中国光刻机的自主研发能力得到了进一步提升。在过去的几年中，中国光刻机的自主研发能力已经得到了很大的提升。在2019年，中国自主研发的EUV光刻机实现了成功试产，标志着中国光刻机的研发水平已经达到了世界先进水平。而在2020年，中国又成功研发出了新一代的光刻机，实现了从0到1的跨越式发展。这些成果的取得，表明中国在光刻机的自主研发方面已经取得了重要的进展。

其次，中国光刻机的市场占有率逐步提高。在过去的几年中，中国光刻机的市场占有率逐步提高。根据产业数据显示，2019年中国光刻机市场份额约为20%!，成为全球第二大光刻机市场。而在2020年，中国光刻机市场份额更是达到了26.8%!，取得了更为显著的成绩。这些数据的背后，反映出中国光刻机在市场竞争中的实力正在逐步增强。

第三，中国光刻机的应用范围不断扩大。在过去的几年中，中国光刻机的应用范围不断扩大。除了传统的半导体领域，中国光刻机开始涉足到新兴领域，如5G、人工智能、物联网等领域。这些新兴领域的兴起，为中国光刻机的发展提供了新的机遇和挑战。

综上所述，中国光刻机在过去两年的发展中，取得了不俗的成绩。自主研发能力不断提升，市场占有率逐步提高，应用领域不断扩大，这些都为中国光刻机的未来发展奠定了基础。然而，在全球光刻机市场竞争日趋激烈的情况下，中国光刻机面临着诸多挑战。如何进一步提升自主创新能力，如何在市场竞争中保持优势，如何实现光刻机技术的本土化，这些都是中国光刻机需要面对和解决的问题。只有在不断探索和创新的过程中，才能实现中国光刻机的长期发展。

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